RF Magnetron Sputtering的意思|示意

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射频磁控溅射

RF Magnetron Sputtering的网络常见释义

射频磁控溅射它包括射频磁控溅射、反应溅射、多元靶溅射及离子束溅射等，通常使用直流溅射、射频磁控溅射(RF magnetron sputtering)和离子束溅射来制备PZT 薄膜。

射频磁控溅射法最高3 制备方法目前制备锆钛酸铅镧铁电薄膜的方法有多种 ,主要有射频磁控溅射法 (RF magnetron sputtering) ,脉冲激光沉积 (PLD)法 ,金属有机物化学气相沉积 (MOCVD)、溶胶 2 凝胶法 ( sol2gel) ,分子束外延法 (MBE) ,金属有机物热解法 (...

溅射技术 2．1．3射频磁控溅射技术（RF magnetron sputtering）在靶阴极内侧装永久磁铁，磁铁分别放置在靶的中心和靶的边缘，且极性相反，从而产生平行于靶表面的磁场分量B，并垂.

RF Magnetron Sputtering相关短语

1、 reactive RF magnetron sputtering 反应rf磁控溅射

2、 helicon RF magnetron sputtering 交流螺旋磁控溅射

3、 RF magnetron sputtering method 射频磁控溅射