plasma source的意思|示意
等离子源
plasma source的用法详解
Plasma source是广泛用于科学研究和工业生产中的一种设备。它可以产生等离子体，该等离子体有利于实现许多应用，例如在半导体制造、能源、环境和生物技术等领域。
在半导体制造中，plasma source主要用于制造硅片，它可以清除表面污染物，并使其具有所需的化学性质。在能源领域，plasma source被用于产生热、电和光。在环境和生物技术领域，plasma source可以用于处理废水、处理生物质等。
此外，plasma source还用于放射性物质处理和核聚变实验等领域。在这些领域，它是一种重要的实验设备。
总之，plasma source在各种领域中都有着广泛的应用，它可以提供高温、高压和高能量的等离子体，从而帮助我们实现各种应用。
plasma source相关短语
1、 ECR plasma source ECR等离子源,ECR等离子体源
2、 MW-ECR Plasma Source 微波
3、 plasma-source 等离子体源
4、 arc plasma source 弧等离子体源
5、 plasma source ion 等离子体源离子
6、 Hall plasma source 霍尔等离子体源
7、 MEVVA plasma source MEVVA等离子体源
8、 metal plasma source 金属等离子体源
9、 laser plasma source 软X射线投影光刻原理装置
plasma source相关例句
The hollow cathode will be presented as a plasma source for reactive evaporation processes.
空心负极将被提出作为血浆来源为易反应的蒸发过程.
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The key to the technology is the gridless plasma source ( GIS ).
该技术核心是无栅等离子体源 ( GIS ).
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ZrN thin films were prepared on 45 # steel by using ECR - microwave plasma source enhanced deposition.
利用ECR - 微波等离子溅射沉积技术不同偏压下在45 # 钢基体上制备了ZrN薄膜.
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