ion etching的意思|示意
离子刻蚀，离子蚀刻
ion etching的用法详解
英语单词“ion etching”的用法讲解
“Ion etching”是一种常用于集成电路制造或纳米加工技术中的表面处理技术。它利用高能离子轰击固体表面，将材料原子从它们的表面组成中剥离出来，用以改变材料的物理和化学特性。这种技术可用于制造光学器件、电子器件、传感器等应用。
“Ion etching”通常涉及到两种类型的离子：正离子和负离子。正离子是掺杂有阳离子的气体分子（例如氩气），它们在电场中加速并撞击材料表面，切割和去除表面材料。负离子是反离子，可以通过较低的能量发射，更加准确地控制表面刻蚀。
“Ion etching”通常与其他表面处理技术一起使用，例如激光刻蚀和干法刻蚀。这些技术可以实现更好的表面控制和精度。
总之，“ion etching”作为一种表面处理技术，在微纳加工和集成电路制造中发挥着重要的作用。通过对其原理和使用方法的了解，人们可以更好地掌握这种技术并应用于相关领域。
ion etching相关短语
1、 Reactive Ion Etching 反应离子刻蚀,反应离子腐蚀,反应性离子蚀刻
2、 ion etching chamber 离子蚀刻室
3、 ion etching station 离子束腐蚀机
4、 high frequency ion etching 高频离子腐蚀
5、 ion etching equipment 离子刻蚀设备
6、 Deep Reactive Ion Etching 深层离子蚀刻技术,深反应离子刻蚀,离子蚀刻技术,利用深反应离子蚀刻
7、 Ion etching technology 离子刻蚀技术
8、 Reactive Ion Etching System 反应离子刻蚀系统
9、 argon ion etching 氩离子蚀刻
ion etching相关例句
The waveguide device was fabricated by - coating films , using aluminum as mask and oxygen reactive ion etching.
我们采用旋涂 、 铝掩膜和氧反应离子刻蚀的方法(RIE)制得了聚合物阵列式光波导器件.
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A patterned DLC thin film cathode was fabricated by reactive -ion etching method and mic ro -fabrication technology.
通过离子束技术和微细加工技术可以实现DLC薄膜的图形化并能大大提高薄膜的场发射性能。
The experiment of fully automatic reactive ion etching on 3 inch GaAs wafer is described.
介绍了全自动反应离子腐蚀3英寸GaAs片的实验研究工作.
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The theory of ion etching and the parameter of ion source designing are discussed in detail.
并且详细论述离子刻蚀的原理以及离子源的参数设计.
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The theory of ion etching and the parameter of ion source designing are discussed in detail.
并且详细论述离子刻蚀的原理以及离子源的参数设计。
The rooting effect of the structure in deep reactive ion etching ( DRIE ) process was investigated.
给出了加速度计的制作工艺流程,研究了解决深 反应离子刻蚀 过程中的过刻蚀现象的方法.
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Photoresist grating was fabricated by holography, and it was used in the mask of ion etching.
采用全息法制备了光刻胶光栅，并用该光栅掩膜离子蚀刻。