interstitial vacancy defect的意思|示意
间隙空位缺陷
interstitial vacancy defect的用法详解
英语单词\"interstitial vacancy defect”（间隙式空位缺陷）是材料科学领域中常见的一个术语。它指的是晶体结构中一种空位缺陷，即原本存在于原子排列规律中的原子在其位置上生成一个缺陷，导致晶体的原子结构变得不完整。
这种缺陷会引起晶格畸变，从而影响材料的电子结构和性质，例如导电性、导热性、热膨胀系数等。在材料科学的研究中，研究人员经常会针对晶体结构中的interstitial vacancy defect进行分析和优化，以提高材料的性能和应用范围。
在材料加工中，控制、修复和利用interstitial vacancy defect也成为了重要的研究方向。这种缺陷被认为对于材料的强度、塑性等特性有巨大的影响，因此在材料设计和制造过程中，需要充分掌握和理解interstitial vacancy defect的分布和演化规律，以实现更好的材料性能和稳定性。
interstitial vacancy defect相关短语
1、 interstitial-vacancy defect 间隙空位缺陷
interstitial vacancy defect相关例句
Point defect - a crystal defect that is an impurity, such as a lattice vacancy or an interstitial atom.
点缺陷-不纯净的晶缺陷，例如格子空缺或原子空隙。