Hot Wire Chemical Vapor Deposition的意思|示意

热丝化学气相沉积 利用HWCVD在柔性衬底上制备多晶硅薄膜 通过热丝化学气相沉积法(Hot Wire Chemical Vapor Deposition,HWCVD),采用间歇供应硅烷气体,持续通入氢气的方式控制硅薄膜的生长,发现该方法在有机衬底上生长的薄膜结构为多...

丝化学气相沉积 化学汽相沉积 ... 丝化学汽相沉积 Hot Wire Chemical Vapor Deposition 化学汽相沉积系统 chemical vapor deposition system 低压化学汽相沉积 deposition, low-pressure chemical vapor ; low-pressure chemical vapor deposition ...

化学汽相沉积 ...高频)法、RF（射频）CVD、MWECR-CVD（微波电 子回旋共振化学气相沉积）、热丝化学汽相沉积(hot wire chemical vapor deposition，HWCVD)等，与传统 的RFCVD相比，MWECR-CVD是一种较新的薄膜制 备和等离子体表面处理技术，它具有...

化学气相沉积法 利用HWCVD在柔性衬底上制备多晶硅薄膜 通过热丝化学气相沉积法(Hot Wire Chemical Vapor Deposition,HWCVD),采用间歇供应硅烷气体,持续通入氢气的方式控制硅薄膜的生长,发现该方法在有机衬底上生长的薄膜结构为多...